Parution d'un chapitre sur la SALD

Le chapitre "Spatial Atomic Layer Deposition" fait partie du livre Open access Chemical Vapor Deposition for Nanotechnology
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Le volume  Chemical Vapor Deposition for Nanotechnology présente plusieurs aspects techniques et scientifiques concernant les méthodes chimiques en phase vapeur







La technique de SALD développée au LMGP est présentée dans la chapitre 1, ce texte a été rédigé par David Muñoz-Rojas, Viet Huong Nguyen, César Masse de la HuertaCarmen Jiménez et  Daniel Bellet



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