Parution d'un chapitre sur la SALD
Le chapitre "Spatial Atomic Layer Deposition" fait partie du livre Open access Chemical Vapor Deposition for Nanotechnology
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Le volume Chemical Vapor Deposition for Nanotechnology présente plusieurs aspects techniques et scientifiques concernant les méthodes chimiques en phase vapeur
La technique de SALD développée au LMGP est présentée dans la chapitre 1, ce texte a été rédigé par David Muñoz-Rojas, Viet Huong Nguyen, César Masse de la Huerta, Carmen Jiménez et Daniel Bellet
Pour plus d'information consultez la page web
La technique de SALD développée au LMGP est présentée dans la chapitre 1, ce texte a été rédigé par David Muñoz-Rojas, Viet Huong Nguyen, César Masse de la Huerta, Carmen Jiménez et Daniel Bellet
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