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Synthèse et propriétés de monocristaux, de poudres, films minces ou hétérostructures

Etudes à l'interface avec la matière biologique

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Publication d'Hervé Roussel

Publié le 10 novembre 2021
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Communiqué du 10 novembre 2021 au 10 janvier 2022

L'article intitulé "Study of structural and electrical properties of ferroelectric HZO films obtained by single-target sputtering" a été publié dans AIP Advances.

AIPAdvRoussel2021

AIPAdvRoussel2021

Ici vous trouverez l'article d'Hervé Roussel:
"In this work, we study the structural and electrical properties of Hafnium Zirconium Oxide (HZO) thin films deposited by Hf0.5Zr0.5O2 single-target sputtering to fabricate a TiN/(14-/22 nm-thick) HZO/TiN stack. The structural analysis of the HZO thin films performed by in situ x-ray diffraction upon thermal annealing shows the formation of the HZO orthorhombic phase at annealing temperatures as low as 370 °C. X-ray photoelectron spectroscopy interestingly reveals an identical chemical composition of the deposited HZO thin films and the sputtered target, i.e., an Hf:Zr ratio of 1:1. The current–voltage characteristic of the TiN/HZO/TiN stack shows a current density of 10−5 A/cm2 at an applied electric field of 1 MV/cm, which, being rather low, gives a strong indication of the good electrical quality of the HZO layer. Finally, a butterfly-like capacitance–voltage loop is obtained on the TiN/HZO/TiN stack, indicating a ferroelectric behavior of the HZO layer."
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mise à jour le 10 novembre 2021

  • Tutelle CNRS
  • Tutelle Grenoble INP
Université Grenoble Alpes