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Synthèse et propriétés de monocristaux, de poudres, films minces ou hétérostructures

Etudes à l'interface avec la matière biologique

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Les résultats de l'équipe SALD sur le dépôt de SiO2 choisis pour une couverture supplémentaire de Chemistry of Materials

Publié le 23 juin 2020
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Communiqué, Prix et distinctions du 22 juin 2020 au 20 octobre 2020
Les travaux deléquipe SALD  dans l'article "Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma"  et publiés dans Chemistry of Materials ont été sélectionnés pour une couverture supplementaire du número 12, Volume 32 en 2020

Pour en savoir plus, visiter le journal
 
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mise à jour le 23 juin 2020

  • Tutelle CNRS
  • Tutelle Grenoble INP
Université Grenoble Alpes