Les résultats de l'équipe SALD sur le dépôt de SiO2 choisis pour une couverture supplémentaire de Chemistry of Materials

    • au
Les travaux deléquipe SALD  dans l'article "Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma"  et publiés dans Chemistry of Materials ont été sélectionnés pour une couverture supplementaire du número 12, Volume 32 en 2020

Pour en savoir plus, visiter le journal