Workshop RAFALD (Réseau d'acteurs français de l'ALD)

Presentation

Un Workshop dédié à la technologie Atomic Layer Deposition (ALD) aura lieu à Grenoble les 16, 17 et 18 Novembre 2015. Ce Workshop a pour but de fédérer les acteurs français du domaine et de créer un réseau national dédié à cette technologie.

La technologie ALD montrant une diversité et une transversalité d’applications incomparables, ce Workshop s’adressera à un public très large, et vise autant les acteurs industriels qu’académiques issus des mondes de la microélectronique, de l’énergie, du textile, de la biologie, des nanotechnologies ou encore de l’électronique organique. Seront les bienvenus à ce Workshop chercheurs, ingénieurs, techniciens, étudiants déjà impliqués dans la technologie ou désirant s’informer (1 journée sera dédiée à des tutoriels donnés par des experts reconnus du domaine).

Vous trouverez plus d'information sur le site web www.rafald.org La procédure de soumission des résumés est décrite dans le site. La date limite est le 1er juillet 2015.

Comité Local

E. Blanquet (SIMAP), R. Boichot (SIMAP), L. Cagnon (Inst Néel), R. Gassilloutd (CEa/Leti), C. Jiménez (LMGP), T. Maindron (CEA/Leti), A. Mantoux (SIMAP) D. Muñoz-Rojas ( SIMAP), C. Vallée (LTM)