Le dépôt chimique en phase vapeur à partir de précurseur métalorganiques ou MOCVD est une technique très versatile qui permet la synthèse de matériaux complexes avec contrôle de la stœchiométrie. La MOVCD présente de fortes vitesses de dépôt et est bien adaptée à la synthèse de matériaux avec un très haut degré de cristallinité.
Autres avantages de cette technique par rapport aux méthodes de dépôt physiques : - un contrôle aisé de la composition - la capacité à couvrir de grandes surfaces et des formes complexes.
Le LMGP d’une réputation internationale dans le domaine de la MOCVD par injection liquide pulsée (PI-MOCVD) et par assistance d’aérosol (AA-CVD) dont les spécificités sont données plus bas ainsi que la liste des équipements du laboratoire.
Transport des précurseurs en phase liquide (aérosol)
Adaptée aux précurseurs faiblement volatiles
Compatible avec les procédés en ligne
Equipements au laboratoire LMGP
5 Réacteurs MOCVD, mode injection pulsée, à basse pression et pour des substrats de 2 à 4 pouces. Chaque réacteur a des spécifications différentes : sa géométrie (porte-substrat horizontal, face up ou down, ou vertical), la température de réaction (200 - 800 ºC), ...
2 réacteurs MOCVD – mode aérosol
1 réacteur assisté UV, qui travaille en mode aérosol ou injection.
1 réacteur assisté plasma, qui travaille en mode aérosol ou injection.
1 réacteur MOCVD-ALD conçu pour réaliser des caractérisations avancées in-situ - Plus d'information